Ni foam 기재
130 ppi 다공성 기재
음이온교환막(AEM) 수전해에서 막과 셀 조건을 바꿔가며 평가할 수 있도록, 일관된 구조와 사양의 양극을 공급합니다.
HXP-an은 이리듐을 쓰지 않는 NiFe-LDH 양극 전극으로, 200 × 300 mm(300 µm)와 100 × 100 mm(3 mm) 표준 규격을 상시 판매합니다. 발주 수락 후 2주에 출하하며 맞춤 두께·대면적은 최대 2개월입니다.

HXP-an은 Ni foam 기재 위에 NiFe LDH를 직접 성장시킨 OER 양극입니다. 소재 구조, 표준 규격과 시험 조건을 함께 확인한 뒤 연구 목적에 맞는 크기를 정합니다.
다공성 Ni foam 기재 위에 NiFe LDH 촉매층을 직접 성장시켜 OER 양극을 만듭니다. 백금족 금속과 이리듐이 들어가지 않습니다.
130 ppi 다공성 기재
기재 위 직접 합성
동일 조건에서 무처리 Ni foam과 비교
실측 결과, 카탈로그 데이터와 설계 목표를 구분합니다. 전체 그래프에는 시험 조건을 함께 표시합니다.
동일한 3전극 조건에서 HXP-an과 무처리 Ni foam의 OER 응답을 비교합니다.

선택 목적과 적용 맥락을 공개한 기록이며, 고객사가 검증한 성능 결과를 뜻하지는 않습니다.
첫 제품 판단을 방해하지 않도록 전체 사양, 지원 조건과 검토 자료를 이곳에 모았습니다.
| 소재 | Ni-Fe @ Ni foam |
|---|---|
| 촉매 | NiFe LDH (OER) |
| 기공 | 130 ppi |
| 기공률 | 95–98% |
| 시험 조건 | 0.3 M KOH · 상온 (3-전극) |
| 표준 포맷 · 스택 적용형 | 200 × 300 mm · 두께 300 ± 20 µm |
| 표준 포맷 · 실험실 평가형 | 100 × 100 mm · 두께 3.0 ± 0.2 mm |
| 맞춤 제작 | 크기·두께 맞춤 제작 가능 (길이 ≤ 300 mm · 폭 ≤ 200 mm) |
| 최소 주문 | 1장 · 최소주문금액 없음 |
| 리드타임 | 표준 2주 · 맞춤 최대 2개월 |
| 출하 검사 | 치수·두께 측정 + 전수 외관검사 |
| 제조 | Ni foam 기재 위에 직접 성장 (바인더 없음) |
| 비표면적 (BET) | Ni foam 대비 약 25배 |
| Tafel 기울기 | 98.7 mV/dec (3-전극 측정) |
| 가속열화 (AST) | 10,000 사이클 수행 (1.0 ↔ 0.05 A/cm² · 5 s) |
논문 Methods에 재료 출처를 적을 때 아래를 그대로 쓰시면 됩니다.
NiFe LDH on Ni foam (HXP-an, HydroXpand Inc., Republic of Korea)로트 번호가 필요하시면 [email protected] 으로 문의 주세요.
양극은 자체 합성 NiFe-LDH라 동일 사양 교체품을 직접 공급합니다. 상세 성능 데이터나 시험 결과를 상호 공유해야 하는 단계에서는 NDA를 체결합니다.
판매 중 · 발주 수락 후 표준 포맷 2주 (맞춤 사양 최대 2개월)
EXW 기준이고 DAP 등 다른 인코텀즈도 가능합니다. 원산지는 한국이며 원산지증명을 제공합니다.