Ni foam 기재
130 ppi 다공성 기재
이 제품이 맞을까요?
비교 실험에서 양극 조건을 일정하게 유지할 수 있는가?
HXP-an은 Ni foam 기재 위에 NiFe LDH를 직접 성장시킨 OER 양극입니다. 소재 구조, 표준 규격과 시험 조건을 함께 확인한 뒤 연구 목적에 맞는 크기를 정합니다.
이런 경우에 적합합니다
- NiFe-LDH와 니켈 폼 기반 양극으로 AEM 수전해 양극 원가를 낮추려는 개발
- NiFe-LDH 기반 OER 양극을 단셀·쇼트스택에서 평가하는 연구
- MEA 제작이나 전극 커팅을 위해 표준·맞춤 크기 양극이 필요한 경우
제품 구성과 공급 경계
기재와 촉매층이 하나의 구조로 이어집니다
다공성 Ni foam 기재 위에 NiFe LDH 촉매층을 직접 성장시켜 OER 양극을 만듭니다.
NiFe LDH 성장
기재 위 in-situ 합성
OER 양극 평가
동일 조건에서 무처리 Ni foam과 비교
HydroXpand가 제공합니다
- NiFe-LDH가 in-situ 성장된 130 ppi Ni foam 양극
- 표준 200 × 300 mm · 300 µm, 그 외 크기·두께는 주문 협의
- 권장 활성화·운전 조건과 공개 가능한 성능 데이터
고객이 준비합니다
- 셀 하드웨어와 막 (저희 HXS-0 셀 사용 가능)
- 평가 프로토콜 (전류밀도·전해액 농도·온도·시험 시간)
- 맞춤 사양이 필요하면 희망 두께·크기·수량
검증 근거
결론을 먼저 보고, 필요할 때 전체 데이터를 확인하세요
실측 결과, 카탈로그 데이터와 설계 목표를 구분합니다. 전체 그래프에는 시험 조건을 함께 표시합니다.
동일한 3전극 조건에서 HXP-an과 무처리 Ni foam의 OER 응답을 비교합니다.
전체 그래프와 시험 조건 보기1 개 데이터
시험 데이터
동일한 3전극 조건에서 HXP-an과 무처리 Ni foam의 OER 응답을 비교합니다.
OER 분극 · 3전극 half-cell (NiFe vs 무처리 Ni foam, 동일 조건)
적용 맥락
이 제품이 사용된 맥락을 확인하세요
선택 목적과 적용 맥락을 공개한 기록이며, 고객사가 검증한 성능 결과를 뜻하지는 않습니다.
상세 기술정보
필요한 세부 정보만 펼쳐보세요
첫 제품 판단을 방해하지 않도록 전체 사양, 지원 조건과 검토 자료를 이곳에 모았습니다.
전체 제품 사양10 개 항목
| 소재 | Ni-Fe @ Ni foam |
|---|---|
| 촉매 | NiFe LDH (OER) |
| 기공 | 130 ppi |
| 기공률 | 95–98% |
| 시험 조건 | 0.3 M KOH · 상온 (3-전극) |
| 크기 | 길이 ≤ 300 mm · 폭 ≤ 200 mm |
| 제조 | Ni foam 기재 위 in-situ 성장 |
| 비표면적 (BET) | Ni foam 대비 약 25배 |
| Tafel 기울기 | 98.7 mV/dec (3-전극 측정) |
| 가속열화 (AST) | 10,000 사이클 수행 (1.0 ↔ 0.05 A/cm² · 5 s) |
지원·납기·거래 조건3 개 항목
교체 · 기술지원
양극은 자체 합성 NiFe-LDH라 동일 사양 교체품을 직접 공급합니다. 상세 성능 데이터나 시험 결과를 상호 공유해야 하는 단계에서는 NDA를 체결합니다.
납기 · 제품 상태
판매 중 · 발주 수락 후 표준 포맷 2주 (맞춤 사양 최대 8주)
거래 조건 · 원산지
EXW 기준, DAP 등 협의 가능. 원산지는 한국이며 원산지증명을 제공합니다.